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                  快速熱處理退火爐

                  更新時間:2022-05-09

                  訪問量:86

                  廠商性質:代理商

                  生產地址:中國

                  簡要描述:
                  快速熱處理(RTP)是將晶片快速加熱到設定溫度,進行短時間快速熱處理的方法。
                  RTP快速熱處理退火爐系統采用輻射熱源對晶片進行一片一片的加熱,溫度測量和控制通過高溫計完成熱處理時間通常小于1~2分鐘,可用于氧化、退火、金屬硅化物的形成和快速熱化學沉積。
                  品牌其他品牌價格區間10萬-30萬
                  儀器種類真空爐產地類別國產
                  應用領域化工,電子,印刷包裝,航天,綜合

                  一、RTP快速熱處理退火爐簡介

                  快速熱處理(RTP)是將晶片快速加熱到設定溫度,進行短時間快速熱處理的方法。

                  RTP系統采用輻射熱源對晶片進行一片一片的加熱,溫度測量和控制通過高溫計完成熱處理時間通常小于1~2分鐘,可用于氧化、退火、金屬硅化物的形成和快速熱化學沉積,RTP系統中,熱源直接面對晶片表面,因此在處理大直徑晶片時不會影響工藝處理的均勻性和升(降)溫速度。RTP系統還有晶片旋轉功能使熱處理均勻性更佳。RTP已逐漸成為先進半導體制造常見的一項工藝。

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                  二、RTP500V真空快速熱處理退火爐技術參數:

                  (1)溫度范圍:100 – 1300 ℃

                  (2)升溫速率:2 – 220 ℃/秒可調

                  (3)密封石英腔內面尺寸:215 X 140X 14 毫米;

                  (4)樣品最大尺寸:4英寸

                  (5)計算機控制系統:PC 機控制;

                  (6)軟件:快速熱處理編程控制軟件RTP-500的控制軟件;

                  (7)程序:①可編程溫度曲線存儲1500 條以上;

                                    ②每條曲線包括100段以上, 溫度設定范圍 25—1300℃ ;

                                    ③每段時間設定范圍1—30000 秒;

                                    ④數據可導出為文本文件便于數據處理,自動優化溫控;

                  (8)溫度設定范圍:100-1300℃

                  (9)溫度重復性:±1℃,6區控溫;

                  (10)測溫精確度:100-1300全溫度段精度>0.5%

                  (11)測溫裝置:K型熱電偶;

                  (12)溫度曲線:自動記錄,保存,文本格式轉換,支持彩色分頁打??;

                  (13)真空系統:一路MFC流量控制,極限真空度0.1Pa,德國THERMOVAC真空測量儀;

                  (14)1000℃連續工作時間:雙閉環溫度控制,  穩態溫度穩定性±2℃ ,1000℃連續工作>1小時;

                  (15)光源:1.25KW X 13 鹵鎢燈

                  (16)電源:380 V  40A 三相 四線(三火線, 零線),50/60Hz;

                  (17)冷卻裝置:自來水或循環水, 水壓 1—3 kg / 平方厘米, 流量6-8升/分

                  (18)冷卻方式:水冷、風冷、氣冷;

                  (19)安全裝置:過溫報警,過熱報警,過熱自動保護,水壓報警,水壓異常自動保護;









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